RECOMBINATION MECHANISMS AND DOPING DENSITY IN SILICON

被引:62
作者
PASSARI, L [1 ]
SUSI, E [1 ]
机构
[1] CNR,IST LAMEL,I-40126 BOLOGNA,ITALY
关键词
D O I
10.1063/1.332568
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3935 / 3937
页数:3
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