PHENOMENOLOGY OF PICOSECOND HEATING AND EVAPORATION OF SILICON SURFACES COATED WITH SIO2 LAYERS

被引:15
作者
LIU, JM [1 ]
LOMPRE, LA [1 ]
KURZ, H [1 ]
BLOEMBERGEN, N [1 ]
机构
[1] HARVARD UNIV,DIV APPL SCI,GORDON MCKAY LAB,CAMBRIDGE,MA 02138
来源
APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING | 1984年 / 34卷 / 01期
关键词
D O I
10.1007/BF00617570
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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