SIMULATED PERFORMANCE OF A CONTRAST-ENHANCEMENT MATERIAL

被引：6

作者：

OTOOLE, MM

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/EDL.1985.26126

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：282 / 284

页数：3

共 6 条

[1]

BARTLETT K, 1983, P SPIE, V394

[2] CHARACTERIZATION OF POSITIVE PHOTORESIST [J].

DILL, FH ;

HORNBERGER, WP ;

HAUGE, PS ;

SHAW, JM .

OLDHAM, WG ;

NANDGAONKAR, SN ;

NEUREUTHER, AR ;

OTOOLE, M .

[4]

OTOOLE MM, 1981, P SOC PHOTO-OPT INST, V275, P128, DOI 10.1117/12.931883

[5] CHARACTERIZATION OF POSITIVE RESIST DEVELOPMENT [J].

OTOOLE, MM ;

GRANDE, WJ .

ELECTRON DEVICE LETTERS, 1981, 2 (12) :311-313

[6]

WEST PR, 1983, P SOC PHOTO-OPT INST, V394, P33, DOI 10.1117/12.935119