UNIFORM DEPOSITION IN CVD REACTORS WITH MOUNTED WAFER CONFIGURATION

被引：3

作者：

HONG, JC

LEE, HH

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(85)90381-1

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：711 / 717

页数：7

共 7 条

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