REACH-THROUGH TYPE PLANAR INGAAS/INP AVALANCHE PHOTODIODE FABRICATED BY CONTINUOUS VAPOR-PHASE EPITAXY

被引:13
作者
ANDO, H
YAMAUCHI, Y
SUSA, N
机构
关键词
D O I
10.1109/JQE.1984.1072376
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:256 / 264
页数:9
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