MONOLITHIC PASSIVATED STRIPE GEOMETRY DOUBLE HETEROSTRUCTURE INJECTION-LASERS BY SELECTIVE CHEMICAL ETCHING

被引:12
作者
TARUI, Y [1 ]
KOMIYA, Y [1 ]
SAKAMOTO, T [1 ]
IIDA, H [1 ]
SHOJI, A [1 ]
机构
[1] ELECTROTECH LAB, TOKYO, JAPAN
关键词
D O I
10.7567/JJAPS.15S1.293
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:293 / 299
页数:7
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