ELECTRONIC-PROPERTIES OF HEAVILY-DOPED N-TYPE SILICON

被引:4
作者
SELLONI, A [1 ]
PANTELIDES, ST [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
PHYSICA B & C | 1983年 / 117卷 / MAR期
关键词
D O I
10.1016/0378-4363(83)90446-1
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
收藏
页码:78 / 80
页数:3
相关论文
共 14 条
[11]  
SELLONI A, 1982, PHYS REV LETT
[12]   MEASUREMENTS OF BANDGAP NARROWING IN SI BIPOLAR-TRANSISTORS [J].
SLOTBOOM, JW ;
DEGRAAFF, HC .
SOLID-STATE ELECTRONICS, 1976, 19 (10) :857-862
[13]   ENERGY-GAP IN SI AND GE - IMPURITY DEPENDENCE - COMMENT [J].
STERNE, PA ;
INKSON, JC .
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1981, 52 (10) :6432-6433
[14]  
VOLFSON AA, 1967, SOV PHYS SEMICOND+, V1, P327