EFFECT OF HEAT-TREATMENT ON PALLADIUM AMORPHOUS-SILICON SCHOTTKY BARRIERS

被引:6
作者
PIETRUSZKO, SM [1 ]
NARASIMHAN, KL [1 ]
GUHA, S [1 ]
机构
[1] TATA INST FUNDAMENTAL RES,BOMBAY 400005,INDIA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 20卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.571488
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:801 / 803
页数:3
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