DEPENDENCE OF SILVER DISTRIBUTIONS IN ELECTRON-BEAM-EXPOSED REGIONS ON DOSAGE AS WELL AS ON THE THICKNESSES OF DRY-SENSITIZED LAYERS AND CHALCOGENIDE GLASS-FILMS

被引：17

作者：

LIANG, YC

TADA, K

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1988年 / 64卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1063/1.341275

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：4494 / 4498

页数：5

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共 13 条

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