A COMPARISON BETWEEN THERMAL ANNEALING AND ION MIXING OF ALLOYED NI-W FILMS ON SI .1.

被引:17
作者
PAI, CS
LAU, SS
POKER, DB
HUNG, LS
机构
[1] OAK RIDGE NATL LAB,DIV SOLID STATE,OAK RIDGE,TN 37831
[2] CORNELL UNIV,DEPT MAT SCI & ENGN,ITHACA,NY 14853
关键词
D O I
10.1063/1.335549
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:4172 / 4177
页数:6
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