LOW-PRESSURE DEPOSITION OF PHOSPHOSILICATE GLASS-FILMS

被引:42
作者
LEVIN, RM
ADAMS, AC
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2124213
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:1588 / 1592
页数:5
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