LOW-TEMPERATURE PULSED PLASMA DEPOSITION .1. A NEW TECHNIQUE FOR THIN-FILM DEPOSITION WITH COMPLETE GAS DISSOCIATION

被引：11

作者：

SCARSBROOK, G

LLEWELLYN, IP

OJHA, SM

HEINECKE, RA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(88)90431-9

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：627 / 631

页数：5

共 8 条

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