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GALLIUM-VACANCY-DEPENDENT DIFFUSION-MODEL OF OHMIC CONTACTS TO GAAS
被引:25
作者
:
GUPTA, RP
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
GUPTA, RP
KHOKLE, WS
论文数:
0
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0
KHOKLE, WS
机构
:
来源
:
SOLID-STATE ELECTRONICS
|
1985年
/ 28卷
/ 08期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0038-1101(85)90070-X
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:823 / 830
页数:8
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[101]
YOO YK, 1979, APPL PHYS LETT, V35, P197
[102]
ELECTRON TUNNELING AND CONTACT RESISTANCE OF METAL-SILICON CONTACT BARRIERS
[J].
YU, AYC
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YU, AYC
.
SOLID-STATE ELECTRONICS,
1970,
13
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