PHOTODEPOSITION RATES OF METAL FROM METAL ALKYLS

被引:33
作者
KRCHNAVEK, RR [1 ]
GILGEN, HH [1 ]
CHEN, JC [1 ]
SHAW, PS [1 ]
LICATA, TJ [1 ]
OSGOOD, RM [1 ]
机构
[1] COLUMBIA UNIV,MICROELECTR SCI LABS,NEW YORK,NY 10027
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.583866
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页数:7
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