RECENT DEVELOPMENTS IN 2-LEVEL RESIST TECHNOLOGY

被引：6

作者：

GRIFFING, BF

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571223

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1423 / 1428

页数：6

共 5 条

[1]

GRIFFING BF, 1981, 6 SPIE MICR C

LIN, BJ ;

CHANG, THP .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1669-1671

[3]

LIN BJ, 1981, P SOC PHOTOOPT INSTR, V174, P114

[4] HIGH-RESOLUTION, STEEP PROFILE RESIST PATTERNS [J].

MORAN, JM ;

MAYDAN, D .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1620-1624

TAI, KL ;

SINCLAIR, WR ;

VADIMSKY, RG ;

MORAN, JM ;

RAND, MJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1977-1979