LOW-TEMPERATURE PROCESSING OF TITANIUM NITRIDE FILMS BY LASER PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION

被引:56
作者
BIUNNO, N
NARAYAN, J
HOFMEISTER, SK
SRIVATSA, AR
SINGH, RK
机构
关键词
D O I
10.1063/1.101338
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1519 / 1521
页数:3
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