THE EFFECT OF COOLING RATE ON THE SURFACE RECONSTRUCTION OF ANNEALED SILICON(111) STUDIED BY SCANNING TUNNELING MICROSCOPY AND LOW-ENERGY ELECTRON-DIFFRACTION

被引:30
作者
PASHLEY, MD
HABERERN, KW
FRIDAY, W
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1988年 / 6卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.575365
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页码:488 / 492
页数:5
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