ANOMALOUS ETCHING PHENOMENON OF RF-SPUTTERED SIO2-FILMS

被引：14

作者：

HARA, K ^{[1
]}

SUZUKI, Y ^{[1
]}

TAGA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,TEMPAKU KU,NAGOYA,AICHI 468,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.18.2027

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2027 / 2028

页数：2

共 7 条

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