DEFECT CENTERS IN OXYGEN-DEFICIENT RF-SPUTTERED SIO2-FILMS .1. ELECTRON-SPIN RESONANCE

被引:21
作者
HICKMOTT, TW [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.1663367
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1050 / 1059
页数:10
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