DEEP UV PHOTORESIST CONTAINING ORTHO-NITROBENZYLSILYLETHER STRUCTURE IN THE MAIN CHAIN

被引：17

作者：

HAYASE, S

ONISHI, Y

HORIGUCHI, R

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2100870

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2275 / 2280

页数：6

共 25 条

[21]

PATCHORNIK CA, 1970, J AM CHEM SOC, V92, P6333

[22] A NOVEL-APPROACH TO ORTHO-NITROBENZYL PHOTOCHEMISTRY FOR RESISTS [J].

REICHMANIS, E ;

WILKINS, CW ;

CHANDROSS, EA .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04) :1338-1342

RICH, DH ;

GURWARA, SK .

WILKINS, CW ;

REICHMANIS, E ;

CHANDROSS, EA .

WUBBELS, GG ;

JORDAN, JW ;

MILLS, NS .