USE OF THE SUBTHRESHOLD BEHAVIOR TO COMPARE X-RAY AND CO-60 RADIATION-INDUCED DEFECTS IN MOS-TRANSISTORS

被引:25
作者
DOZIER, CM
BROWN, DB
FREITAG, RK
THROCKMORTON, JL
机构
关键词
D O I
10.1109/TNS.1986.4334600
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:1324 / 1329
页数:6
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