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MBE GROWTH OF ALGAAS/NIAL/ALGAAS HETEROSTRUCTURES - A NOVEL EPITAXIAL III-V SEMICONDUCTOR METAL SYSTEM
被引:4
作者
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HARBISON, JP
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机构
:
来源
:
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
|
1989年
/ 95卷
/ 1-4期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0022-0248(89)90434-X
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
:
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[1]
MOLECULAR-BEAM EPITAXIAL-GROWTH OF ULTRATHIN BURIED METAL LAYERS - (AL,GA)AS/NIAL/(AL,GA)AS HETEROSTRUCTURES
HARBISON, JP
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KERAMIDAS, VG
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1988,
53
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: 1717
-
1719
[2]
EPITAXIAL-GROWTH OF GAAS/NIAL/GAAS HETEROSTRUCTURES
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1988,
52
(15)
: 1216
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NIAL/N-GAAS SCHOTTKY DIODES - BARRIER HEIGHT ENHANCEMENT BY HIGH-TEMPERATURE ANNEALING
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共 4 条
[1]
MOLECULAR-BEAM EPITAXIAL-GROWTH OF ULTRATHIN BURIED METAL LAYERS - (AL,GA)AS/NIAL/(AL,GA)AS HETEROSTRUCTURES
HARBISON, JP
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KERAMIDAS, VG
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1988,
53
(18)
: 1717
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[2]
EPITAXIAL-GROWTH OF GAAS/NIAL/GAAS HETEROSTRUCTURES
SANDS, T
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KERAMIDAS, VG
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1988,
52
(15)
: 1216
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[3]
NIAL/N-GAAS SCHOTTKY DIODES - BARRIER HEIGHT ENHANCEMENT BY HIGH-TEMPERATURE ANNEALING
SANDS, T
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[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1988,
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: 1338
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TABATABAIE N, 1988, APPL PHYS LETT, V53
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