MULTISOURCE DEPOSITION RATE CONTROL USING A MASS-SPECTROMETER AS A SENSING ELEMENT

被引：3

作者：

LUTZ, H

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569578

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：309 / 312

页数：4

共 7 条

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