INFLUENCE OF 2-LEVEL PLANAR INTERCONNECTION PROCESSES USING BIAS-SPUTTERED SIO2 FOR MOSFETS

被引：2

作者：

TSUNEKAWA, S

KUME, H

HOMMA, Y

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2097527

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2632 / 2637

页数：6

共 14 条

[11]

TSUNEKAWA S, 1983, ELECTROCHEMICAL SOC, V832, P436

[12]

Wada Y., 1983, International Electron Devices Meeting 1983. Technical Digest, P323

WINOKUR, PS ;

BOESCH, HE .

YAMAMOTO, N ;

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KUME, H .