HEAT-TREATMENT OF GALLIUM-PHOSPHIDE

被引:16
作者
NISHIZAWA, J
OKUNO, Y
SUTO, K
SATO, T
YAMOKOSHI, S
机构
[1] TOHOKU UNIV, RES INST ELECT COMMUN, SENDAI, JAPAN
[2] SEMICOND RES INST, SENDAI, JAPAN
关键词
D O I
10.1016/0038-1098(74)90386-X
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
摘要
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页码:889 / 892
页数:4
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