CONTACT REACTIONS BETWEEN AMORPHOUS SILICON AND SINGLE-CRYSTAL METALLIC-FILMS

被引：14

作者：

KOSTER, U ^{[1
]}

CAMPBELL, DR ^{[1
]}

TU, KN ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(78)90025-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：129 / 134

页数：6

共 7 条

[1]

HERD SR, 1972, J NONCRYSTAL SOLIDS, V7, P309, DOI DOI 10.1016/0022-3093(72)90267-0

[2] CONTACT METALLURGY FOR SHALLOW JUNCTION SI DEVICES [J].

KIRCHER, CJ .

[3]

KOSTER U, UNPUBLISHED

MAYER, JW ;

TU, KN .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (01) :86-93

[5] ATOM MOVEMENTS OCCURRING AT SOLID METAL-SEMICONDUCTOR INTERFACES [J].

MCCALDIN, JO .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (06) :990-995

NAKASHIMA, K ;

IWAMI, M ;

HIRAKI, A .

[7]

TU KN, 1978, THIN FILMS INTERDIFF, pCH10