ANALYSIS OF IMAGING ACCURACY IN REACTIVE ION ETCHING

被引：7

作者：

UKAI, K

HANAZAWA, K

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

Compendex;

D O I：

10.1116/1.569541

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

ETCHING

引用

页码：338 / 340

页数：3

共 6 条

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