ION-BEAM ENHANCED MAGNETRON REACTIVE ION ETCHING

被引：3

作者：

CHINN, JD ^{[1
]}

机构：

[1] FAIRCHILD RES CTR,PALO ALTO,CA 94304

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.98275

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2007 / 2009

页数：3

共 6 条

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