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可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111247035.1
申请日
:
2021-10-26
公开(公告)号
:
CN113985708B
公开(公告)日
:
2024-02-13
发明(设计)人
:
匡翠方
王洪庆
詹兰馨
汤孟博
张晓依
杨臻垚
温积森
王子昂
刘旭
申请人
:
之江实验室
浙江大学
申请人地址
:
310023 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
代理机构
:
杭州求是专利事务所有限公司 33200
代理人
:
邱启旺
法律状态
:
授权
国省代码
:
浙江省 杭州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-13
授权
授权
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[1]
可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置
[P].
匡翠方
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匡翠方
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王洪庆
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詹兰馨
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汤孟博
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汤孟博
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张晓依
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杨臻垚
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温积森
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王子昂
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刘旭
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刘旭
.
中国专利
:CN113985708A
,2022-01-28
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可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置
[P].
匡翠方
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之江实验室
之江实验室
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汤孟博
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张晓依
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杨臻垚
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之江实验室
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刘旭
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之江实验室
之江实验室
刘旭
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中国专利
:CN113960892B
,2024-04-16
[3]
可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置
[P].
匡翠方
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刘旭
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一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置
[P].
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刘旭
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一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置
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:CN113960891B
,2024-02-09
[6]
一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置
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刘旭
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:CN113909698A
,2022-01-11
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基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像装置及方法
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刘锡
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魏震
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,2022-02-22
[8]
一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置
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匡翠方
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朱大钊
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朱大钊
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,2021-04-30
[9]
集成化超分辨激光直写装置及直写方法
[P].
曾爱军
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曾爱军
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刘铁诚
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:CN109491214B
,2019-03-19
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一种超分辨激光直写与成像方法及装置
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匡翠方
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