一种用于等离子刻蚀的夹紧装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322109790.4

申请日：

2023-08-07

公开(公告)号：

CN220934008U

公开(公告)日：

2024-05-10

发明(设计)人：

苏竑森管士亚

申请人：

嘉芯闳扬半导体设备科技（浙江）有限公司

申请人地址：

314102 浙江省嘉兴市嘉善县西塘镇南苑西路999号4幢西侧

IPC主分类号：

H01J37/20

IPC分类号：

H01J37/32

代理机构：

嘉兴尚正专利代理事务所(普通合伙) 33467

代理人：

赵文静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-10	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子刻蚀用夹紧装置 [P].

成品奇 ;

李鹏飞 ;

王辉 ;

胥健奇 ;

张茂胜 .

中国专利 :CN202067763U ,2011-12-07

[2]

一种用于等离子刻蚀的夹持装置 [P].

陈正 ;

刘昭 ;

周亮亮 .

中国专利 :CN211045373U ,2020-07-17

[3]

一种用于改善刻蚀均匀性的等离子刻蚀装置 [P].

韩大健 ;

李娜 ;

冯英雄 ;

车东晨 ;

许开东 .

中国专利 :CN212303604U ,2021-01-05

[4]

一种等离子刻蚀装置 [P].

崔岸 ;

郝裕兴 ;

张睿 ;

陈宠 ;

刘芳芳 ;

刘天赐 ;

黄显晴 ;

杨伟丽 ;

徐晓倩 .

中国专利 :CN209045484U ,2019-06-28

[5]

等离子刻蚀装置 [P].

叶璘珂 ;

陈诚 ;

张德伟 ;

荆泉 .

中国专利 :CN222190625U ,2024-12-17

[6]

一种等离子刻蚀方法及等离子刻蚀装置 [P].

李宛泽 ;

刘轩 ;

刘祖宏 .

中国专利 :CN106504971B ,2017-03-15

[7]

一种刻蚀装置和等离子刻蚀系统 [P].

李浩 ;

刘海洋 ;

李雪冬 ;

陈帅 ;

贺小明 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN221079928U ,2024-06-04

[8]

一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机 [P].

全宰弘 ;

陈欣鑫 .

中国专利 :CN221125876U ,2024-06-11

[9]

一种便于调节的等离子刻蚀机 [P].

徐锋 ;

秦宝宏 ;

辛奇 ;

文冬 ;

郭杰 ;

闫乐成 ;

胡凯 .

中国专利 :CN223284929U ,2025-08-29

[10]

等离子刻蚀装置及等离子刻蚀方法 [P].

张朋兵 ;

王兆祥 ;

梁洁 ;

涂乐义 ;

李可 ;

唐乐 ;

顾橙蕾 .

中国专利 :CN119028797B ,2024-12-31

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