一种高性能GaN MIS-HEMT的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202310437073.6
申请日
2023-04-18
公开(公告)号
CN116387158B
公开(公告)日
2024-02-02
发明(设计)人
崔鹏 代嘉铖 崔潆心 钟宇 李汉和 徐明升 李树强 韩吉胜 徐现刚
申请人
山东大学
申请人地址
250100 山东省济南市历城区山大南路27号
IPC主分类号
H01L21/335
IPC分类号
H01L29/778 H01L29/207 H01L21/324
代理机构
济南金迪知识产权代理有限公司 37219
代理人
张宏松
法律状态
授权
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
基于GaN或GaAs的MIS-HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李迈克 .
中国专利 :CN110718584A ,2020-01-21
[2]
基于GaN或GaAs的MIS-HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李迈克 .
中国专利 :CN110718584B ,2024-03-26
[3]
AlGaN/GaN MIS-HEMT的制作方法 [P]. 
刘美华 ;
孙辉 ;
林信南 ;
陈建国 .
中国专利 :CN107230709A ,2017-10-03
[4]
实现高频MIS-HEMT的方法及MIS-HEMT器件 [P]. 
李夏珺 ;
张宝顺 ;
蔡勇 ;
于国浩 ;
付凯 ;
张志利 ;
孙世闯 ;
宋亮 .
中国专利 :CN108695383B ,2018-10-23
[5]
一种凹槽型GaN MIS-HEMT纵向器件及其制备方法 [P]. 
王刚 ;
李成兵 .
中国专利 :CN118763105A ,2024-10-11
[6]
一种凹槽型GaN MIS-HEMT纵向器件及其制备方法 [P]. 
王刚 ;
李成兵 .
中国专利 :CN118763105B ,2024-11-26
[7]
具有Г型栅的GaN基MIS-HEMT器件及制备方法 [P]. 
王洪 ;
陈竟雄 ;
刘晓艺 .
中国专利 :CN110581170A ,2019-12-17
[8]
具有Г型栅的GaN基MIS-HEMT器件 [P]. 
王洪 ;
陈竟雄 ;
刘晓艺 .
中国专利 :CN211929496U ,2020-11-13
[9]
基于GaN MIS-HEMT的金属间介电层平整方法以及使用其的GaN MIS-HEMT [P]. 
廖仕晃 ;
陈旷举 ;
黄尧峯 ;
林弘骥 .
中国专利 :CN120356826A ,2025-07-22
[10]
增强型GaN基MIS-HEMT器件及其制备方法 [P]. 
孙慧卿 ;
夏凡 ;
夏晓宇 ;
谭秀洋 ;
马建铖 ;
张淼 ;
李渊 .
中国专利 :CN111613668B ,2020-09-01