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化学机械研磨机台
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN98115901.X
申请日
:
1998-07-06
公开(公告)号
:
CN1241469A
公开(公告)日
:
2000-01-19
发明(设计)人
:
牛保刚
黄文忠
林必窕
洪连嵘
李森楠
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学工业园区
IPC主分类号
:
B24B3704
IPC分类号
:
代理机构
:
柳沈知识产权律师事务所
代理人
:
李晓舒
法律状态
:
著录项目变更
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2000-09-27
著录项目变更
著录项目变更 变更事项:申请人 变更前:世大积体电路股份有限公司 变更后:台湾积体电路制造股份有限公司
2000-01-19
公开
公开
2000-08-30
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
共 50 条
[1]
化学机械研磨机台
[P].
陈洪雷
论文数:
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陈洪雷
;
顾军
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顾军
;
刘波
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刘波
.
中国专利
:CN102658519B
,2012-09-12
[2]
化学机械研磨机台
[P].
刘尹智
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刘尹智
;
李森楠
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李森楠
.
中国专利
:CN1247118A
,2000-03-15
[3]
化学机械研磨机台
[P].
宋恺
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宋恺
;
张弢
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张弢
;
蒋德念
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蒋德念
.
中国专利
:CN204504984U
,2015-07-29
[4]
化学机械研磨机台
[P].
宋恺
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宋恺
;
张弢
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张弢
;
蒋德念
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蒋德念
.
中国专利
:CN204075983U
,2015-01-07
[5]
化学机械研磨机台
[P].
林必窕
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林必窕
;
牛保刚
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牛保刚
;
黄文忠
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黄文忠
;
李森楠
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李森楠
.
中国专利
:CN1240695A
,2000-01-12
[6]
化学机械研磨机台
[P].
刘尹智
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刘尹智
.
中国专利
:CN1080619C
,2000-03-08
[7]
研磨垫及化学机械研磨机台
[P].
田国军
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田国军
;
赵雪峰
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赵雪峰
.
中国专利
:CN202825512U
,2013-03-27
[8]
化学机械研磨机台及化学机械研磨制程
[P].
叶书佑
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叶书佑
;
陈建置
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陈建置
;
黄俊凱
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黄俊凱
;
郑穆韩
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郑穆韩
;
陈慈信
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陈慈信
.
中国专利
:CN108621023A
,2018-10-09
[9]
研磨液手臂以及化学机械研磨机台
[P].
岳志刚
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岳志刚
;
辛君
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辛君
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN210650151U
,2020-06-02
[10]
化学机械研磨机台的维护方法
[P].
陈肖科
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陈肖科
;
张溢钢
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张溢钢
.
中国专利
:CN101347920A
,2009-01-21
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