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沉积非晶硅的成膜方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810833460.0
申请日
:
2018-07-26
公开(公告)号
:
CN109148263A
公开(公告)日
:
2019-01-04
发明(设计)人
:
刘善善
朱黎敏
朱兴旺
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
戴广志
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-04
公开
公开
2020-06-26
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 21/02 申请公布日:20190104
2019-01-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20180726
共 50 条
[1]
沉积非晶硅膜的方法
[P].
加施·帕特尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
加施·帕特尔
;
刘玉菲
论文数:
0
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0
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0
刘玉菲
.
中国专利
:CN103938179A
,2014-07-23
[2]
非晶硅的成膜方法
[P].
刘善善
论文数:
0
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0
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0
刘善善
;
朱黎敏
论文数:
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0
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0
朱黎敏
.
中国专利
:CN109285759A
,2019-01-29
[3]
非晶硅薄膜成膜方法
[P].
刘善善
论文数:
0
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0
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刘善善
;
朱黎敏
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0
朱黎敏
;
朱兴旺
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0
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朱兴旺
.
中国专利
:CN107919272A
,2018-04-17
[4]
非晶硅薄膜成膜方法
[P].
刘善善
论文数:
0
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0
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刘善善
;
朱黎敏
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朱黎敏
;
朱兴旺
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朱兴旺
.
中国专利
:CN107464743A
,2017-12-12
[5]
非晶硅薄膜成膜方法
[P].
王剑敏
论文数:
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王剑敏
;
葛哲玮
论文数:
0
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0
葛哲玮
.
中国专利
:CN112331556A
,2021-02-05
[6]
非晶硅膜的成膜方法及成膜装置
[P].
柿本明修
论文数:
0
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柿本明修
;
高木聪
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高木聪
;
五十岚一将
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五十岚一将
.
中国专利
:CN102891075B
,2013-01-23
[7]
再次沉积的非晶硅薄膜
[P].
李沅民
论文数:
0
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0
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李沅民
;
马昕
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0
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马昕
.
中国专利
:CN101246818A
,2008-08-20
[8]
非晶硅膜的形成方法
[P].
辛昌学
论文数:
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辛昌学
;
崔暎喆
论文数:
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崔暎喆
.
中国专利
:CN109841499A
,2019-06-04
[9]
斜坡状非晶硅薄膜成膜方法
[P].
刘善善
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0
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0
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刘善善
;
朱黎敏
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0
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朱黎敏
;
朱兴旺
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0
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朱兴旺
.
中国专利
:CN108383077A
,2018-08-10
[10]
一种非晶硅薄膜的沉积方法及沉积设备
[P].
尹勇
论文数:
0
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0
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尹勇
;
王晓龙
论文数:
0
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王晓龙
;
陆鸣晔
论文数:
0
引用数:
0
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0
陆鸣晔
.
中国专利
:CN111826632A
,2020-10-27
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