抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011262127.2

申请日：

2020-11-12

公开(公告)号：

CN112571281A

公开(公告)日：

2021-03-30

发明(设计)人：

马成斌季文明

申请人：

申请人地址：

201306 上海市浦东新区临港新城云水路1000号

IPC主分类号：

B24B53017

IPC分类号：

B24B4912 B24B3700

代理机构：

北京市磐华律师事务所 11336

代理人：

高伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 53/017 申请日:20201112
2021-03-30	公开	公开
2022-07-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B 53/017 申请公布日:20210330

共 50 条

[1]

化学机械抛光抛光垫修整装置 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN203542368U ,2014-04-16

[2]

化学机械抛光垫修整器 [P].

杨宗庆 ;

董光乾 ;

王伟东 ;

钱卫 ;

谢咸盛 .

中国专利 :CN202180415U ,2012-04-04

[3]

抛光垫和化学机械抛光装置 [P].

崔宰荣 .

中国专利 :CN101125419A ,2008-02-20

[4]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[5]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[6]

化学机械抛光工艺抛光垫的修整器 [P].

黄荣燕 .

中国专利 :CN206464992U ,2017-09-05

[7]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

M·R·加丁科 ;

M·T·伊斯兰 ;

郭毅 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN111203798B ,2020-05-29

[8]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

M·R·加丁科 ;

M·T·伊斯兰 ;

郭毅 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN111136577B ,2020-05-12

[9]

抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

冈本隆浩 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN1569399A ,2005-01-26

[10]

抛光垫、抛光平台和化学机械抛光装置 [P].

周文勇 .

中国专利 :CN221436130U ,2024-07-30

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