外延片的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780012151.7

申请日：

2007-01-24

公开(公告)号：

CN101415866B

公开(公告)日：

2009-04-22

发明(设计)人：

古屋田荣高石和成桥井友裕村山克彦加藤健夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

熊玉兰;李平英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-04-22	公开	公开
2015-06-17	授权	授权

共 50 条

[1]

外延片的制造方法及外延片 [P].

铃木克佳 ;

铃木温 .

中国专利 :CN114930500A ,2022-08-19

[2]

外延片的制造方法 [P].

铃木克佳 ;

铃木温 .

日本专利 :CN114930500B ,2025-12-05

[3]

异质外延片的制造方法 [P].

松原寿树 ;

铃木温 ;

大槻刚 ;

阿部达夫 .

日本专利 :CN118202096A ,2024-06-14

[4]

异质外延片的制造方法 [P].

松原寿树 ;

铃木温 ;

大槻刚 ;

阿部达夫 .

日本专利 :CN119343486A ,2025-01-21

[5]

外延片及其制造方法 [P].

三浦祥纪 ;

藤田庆一郎 ;

竹本菊郎 ;

松岛政人 ;

松原秀树 ;

高岸成典 ;

关寿 ;

纐缬明伯 .

中国专利 :CN1134037A ,1996-10-23

[6]

外延片的制造方法、外延生长用硅系基板及外延片 [P].

土屋庆太郎 ;

萩本和德 ;

篠宫胜 .

中国专利 :CN112753092A ,2021-05-04

[7]

外延片的制造方法 [P].

大槻刚 ;

水泽康 ;

铃木克佳 ;

石崎顺也 .

中国专利 :CN110678964A ,2020-01-10

[8]

外延片的制造方法、外延生长用硅系基板及外延片 [P].

土屋庆太郎 ;

萩本和德 ;

篠宫胜 .

日本专利 :CN112753092B ,2024-12-20

[9]

表面处理方法、硅外延片的制造方法以及硅外延片 [P].

保科祐章 ;

田中纪通 .

中国专利 :CN1574247A ,2005-02-02

[10]

硅外延片的制造方法及硅外延片 [P].

金谷晃一 ;

西泽毅 .

中国专利 :CN1864245A ,2006-11-15

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