外延片的制造方法及外延片

被引：0

申请号：

CN202080092094.3

申请日：

2020-11-24

公开(公告)号：

CN114930500A

公开(公告)日：

2022-08-19

发明(设计)人：

铃木克佳铃木温

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

C30B2906 C23C1602 C23C1624

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

张晶;谢顺星

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-19	公开	公开
2022-09-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/205 申请日:20201124

共 50 条

[1]

外延片的制造方法 [P].

铃木克佳 ;

铃木温 .

日本专利 :CN114930500B ,2025-12-05

[2]

外延片的制造方法 [P].

古屋田荣 ;

高石和成 ;

桥井友裕 ;

村山克彦 ;

加藤健夫 .

中国专利 :CN101415866B ,2009-04-22

[3]

外延片的制造方法、外延生长用硅系基板及外延片 [P].

土屋庆太郎 ;

萩本和德 ;

篠宫胜 .

中国专利 :CN112753092A ,2021-05-04

[4]

外延片的制造方法、外延生长用硅系基板及外延片 [P].

土屋庆太郎 ;

萩本和德 ;

篠宫胜 .

日本专利 :CN112753092B ,2024-12-20

[5]

硅外延片的制造方法及硅外延片 [P].

金谷晃一 ;

西泽毅 .

中国专利 :CN1864245A ,2006-11-15

[6]

异质外延片的制造方法 [P].

松原寿树 ;

铃木温 ;

大槻刚 ;

阿部达夫 .

日本专利 :CN118202096A ,2024-06-14

[7]

异质外延片的制造方法 [P].

松原寿树 ;

铃木温 ;

大槻刚 ;

阿部达夫 .

日本专利 :CN119343486A ,2025-01-21

[8]

表面处理方法、硅外延片的制造方法以及硅外延片 [P].

保科祐章 ;

田中纪通 .

中国专利 :CN1574247A ,2005-02-02

[9]

外延片的制备方法和外延片 [P].

林凡 ;

张高俊 ;

倪健 ;

周均铭 .

中国专利 :CN120089592B ,2025-12-02

[10]

外延片的制备方法和外延片 [P].

王旭光 ;

邱晓升 ;

王子博 ;

倪健 .

中国专利 :CN120905770A ,2025-11-07

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