SiC 晶片的生成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201711146070.8
申请日
2017-11-17
公开(公告)号
CN108161215A
公开(公告)日
2018-06-15
发明(设计)人
平田和也
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
B23K2600
IPC分类号
B28D500
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
庞东成;褚瑶杨
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 ;
山本凉兵 .
中国专利 :CN108447783A ,2018-08-24
[2]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 .
中国专利 :CN108372434B ,2018-08-07
[3]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 .
中国专利 :CN107877011B ,2018-04-06
[4]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 .
中国专利 :CN108735578A ,2018-11-02
[5]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
山本凉兵 ;
平田和也 .
中国专利 :CN107790898A ,2018-03-13
[6]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 .
中国专利 :CN107717248B ,2018-02-23
[7]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 .
中国专利 :CN108145307B ,2018-06-12
[8]
SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 ;
森重幸雄 .
中国专利 :CN106945190B ,2017-07-14
[9]
多晶SiC晶片的生成方法 [P]. 
平田和也 ;
西野曜子 .
中国专利 :CN106346148A ,2017-01-25
[10]
晶片生成方法 [P]. 
平田和也 ;
山本凉兵 .
中国专利 :CN108447769A ,2018-08-24