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SiC 晶片的生成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711146070.8
申请日
:
2017-11-17
公开(公告)号
:
CN108161215A
公开(公告)日
:
2018-06-15
发明(设计)人
:
平田和也
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
B23K2600
IPC分类号
:
B28D500
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
庞东成;褚瑶杨
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-06-11
授权
授权
2019-11-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 26/00 申请日:20171117
2018-06-15
公开
公开
共 50 条
[1]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
;
山本凉兵
论文数:
0
引用数:
0
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0
山本凉兵
.
中国专利
:CN108447783A
,2018-08-24
[2]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
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0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN108372434B
,2018-08-07
[3]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN107877011B
,2018-04-06
[4]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN108735578A
,2018-11-02
[5]
SiC晶片的生成方法
[P].
山本凉兵
论文数:
0
引用数:
0
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0
山本凉兵
;
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN107790898A
,2018-03-13
[6]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN107717248B
,2018-02-23
[7]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
平田和也
.
中国专利
:CN108145307B
,2018-06-12
[8]
SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
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0
平田和也
;
森重幸雄
论文数:
0
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0
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0
森重幸雄
.
中国专利
:CN106945190B
,2017-07-14
[9]
多晶SiC晶片的生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
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0
平田和也
;
西野曜子
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0
西野曜子
.
中国专利
:CN106346148A
,2017-01-25
[10]
晶片生成方法
[P].
平田和也
论文数:
0
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平田和也
;
山本凉兵
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0
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0
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0
山本凉兵
.
中国专利
:CN108447769A
,2018-08-24
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