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一种具有内禀铁磁性ZnO基稀磁半导体薄膜及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110031688.6
申请日
:
2011-01-28
公开(公告)号
:
CN102270737A
公开(公告)日
:
2011-12-07
发明(设计)人
:
刘学超
陈之战
杨建华
施尔畏
申请人
:
申请人地址
:
200050 上海市长宁区定西路1295号
IPC主分类号
:
H01L4310
IPC分类号
:
H01L4312
H01L21203
C23C1408
C23C1434
代理机构
:
上海光华专利事务所 31219
代理人
:
许亦琳;余明伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-11-05
授权
授权
2011-12-07
公开
公开
2012-01-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101174910887 IPC(主分类):H01L 43/10 专利申请号:2011100316886 申请日:20110128
共 50 条
[1]
具有内禀铁磁性的ZnO基稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
熊泽
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熊泽
;
刘学超
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刘学超
;
卓世异
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卓世异
;
孔海宽
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孔海宽
;
杨建华
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杨建华
;
施尔畏
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施尔畏
.
中国专利
:CN102676994A
,2012-09-19
[2]
一种具有室温铁磁性的ZnO基稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
罗曦
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罗曦
;
张敬霖
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张敬霖
;
于一鹏
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于一鹏
;
卢凤双
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卢凤双
;
吴滨
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吴滨
;
张建生
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张建生
;
张建福
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张建福
;
祁焱
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祁焱
.
中国专利
:CN112708861B
,2021-04-27
[3]
一种具有室温铁磁性的TiO基稀磁半导体薄膜及其制备方法和应用
[P].
罗曦
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机构:
钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
罗曦
;
于一鹏
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
于一鹏
;
张敬霖
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张敬霖
;
卢凤双
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
卢凤双
;
王晶
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
王晶
;
刘军凯
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
刘军凯
;
李增
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
李增
;
李海鹏
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
李海鹏
;
刘派
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
刘派
;
张建生
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张建生
;
张建福
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机构:
钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张建福
.
中国专利
:CN118639188A
,2024-09-13
[4]
ZnO基稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
林元华
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林元华
;
张玉骏
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张玉骏
;
罗屹东
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罗屹东
;
南策文
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南策文
.
中国专利
:CN103074576B
,2013-05-01
[5]
一种增强ZnO基稀磁半导体薄膜室温铁磁性的方法
[P].
陈卫宾
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陈卫宾
;
刘学超
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刘学超
;
卓世异
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卓世异
;
施尔畏
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施尔畏
;
孔海宽
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孔海宽
.
中国专利
:CN105161288A
,2015-12-16
[6]
一种用于In基半导体材料的稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
罗曦
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机构:
钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
罗曦
;
张敬霖
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机构:
钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张敬霖
;
于一鹏
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
于一鹏
;
卢凤双
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
卢凤双
;
李海鹏
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
李海鹏
;
刘派
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
刘派
;
张建生
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张建生
;
张建福
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钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
张建福
;
祁焱
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机构:
钢铁研究总院有限公司
钢铁研究总院有限公司
祁焱
.
中国专利
:CN116479385B
,2025-12-09
[7]
具有室温铁磁性的氧化物基稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
林元华
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林元华
;
南策文
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南策文
;
赵荣娟
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赵荣娟
.
中国专利
:CN1924095A
,2007-03-07
[8]
一种制备具有室温铁磁性氧化锌基稀磁半导体薄膜的方法
[P].
王金斌
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王金斌
;
黄贵军
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黄贵军
;
钟向丽
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钟向丽
;
张艳杰
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张艳杰
;
郑学军
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郑学军
;
周益春
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周益春
.
中国专利
:CN101086060A
,2007-12-12
[9]
一种制备稀磁半导体薄膜的方法
[P].
王晓亮
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王晓亮
;
姜丽娟
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0
姜丽娟
;
刘超
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刘超
;
肖红领
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肖红领
;
冉军学
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冉军学
;
王翠梅
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王翠梅
.
中国专利
:CN101471244B
,2009-07-01
[10]
一种SiC基稀磁半导体薄膜及其制备方法
[P].
周仁伟
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周仁伟
;
刘学超
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0
刘学超
;
郑燕青
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郑燕青
;
施尔畏
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施尔畏
.
中国专利
:CN105551794A
,2016-05-04
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