MOS晶体管的形成方法和CMOS晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201410184850.1
申请日
2014-05-04
公开(公告)号
CN105097524A
公开(公告)日
2015-11-25
发明(设计)人
张海洋 尚飞
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128 H01L218238
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴圳添;骆苏华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
尚飞 .
中国专利 :CN105097687B ,2015-11-25
[2]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
韩秋华 .
中国专利 :CN104347417A ,2015-02-11
[3]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
李凤莲 ;
倪景华 .
中国专利 :CN104347418A ,2015-02-11
[4]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 ;
刘焕新 .
中国专利 :CN103928331A ,2014-07-16
[5]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN106298484B ,2017-01-04
[6]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN103915387A ,2014-07-09
[7]
晶体管的形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN106158630A ,2016-11-23
[8]
PMOS晶体管的形成方法及CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104425265A ,2015-03-18
[9]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN102800631B ,2012-11-28
[10]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN105826256B ,2016-08-03