CMOS晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510005139.X
申请日
2015-01-06
公开(公告)号
CN105826256B
公开(公告)日
2016-08-03
发明(设计)人
刘佳磊
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104681489A ,2015-06-03
[2]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
王冬江 .
中国专利 :CN103972173B ,2014-08-06
[3]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN103915387A ,2014-07-09
[4]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104517901B ,2015-04-15
[5]
晶体管的形成方法 [P]. 
徐建华 .
中国专利 :CN105336589A ,2016-02-17
[6]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN102800631B ,2012-11-28
[7]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN104347512A ,2015-02-11
[8]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN103855096A ,2014-06-11
[9]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
谢欣云 .
中国专利 :CN104681490A ,2015-06-03
[10]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
尚飞 .
中国专利 :CN105097687B ,2015-11-25