CMOS晶体管的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110139436.5
申请日
2011-05-26
公开(公告)号
CN102800631B
公开(公告)日
2012-11-28
发明(设计)人
三重野文健
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L2128 H01L21265
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104617046A ,2015-05-13
[2]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN104347512A ,2015-02-11
[3]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN103915387A ,2014-07-09
[4]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104517901B ,2015-04-15
[5]
PMOS晶体管的形成方法及CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN104425265A ,2015-03-18
[6]
晶体管的形成方法,CMOS的形成方法 [P]. 
李凤莲 ;
倪景华 .
中国专利 :CN103311184A ,2013-09-18
[7]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN105826256B ,2016-08-03
[8]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
王冬江 .
中国专利 :CN103972173B ,2014-08-06
[9]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN103855096A ,2014-06-11
[10]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
谢欣云 .
中国专利 :CN104681490A ,2015-06-03