浸没式光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010117417.8

申请日：

2006-04-19

公开(公告)号：

CN101776848A

公开(公告)日：

2010-07-14

发明(设计)人：

亚历山德·克麦里切克亨利·西韦尔路易斯·约翰·马克雅埃里克·伦洛夫·卢布斯卓尼古拉斯·腾凯特

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王新华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-07-14	公开	公开
2018-05-04	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20060419 授权公告日:20120704 终止日期:20170419
2012-07-04	授权	授权
2010-09-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005742766 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010101174178 申请日:20060419

共 50 条

[1]

浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法 [P].

哈里·休厄尔 ;

路易斯·约翰·马克亚 .

中国专利 :CN102073221B ,2011-05-25

[2]

浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法 [P].

哈里·休厄尔 ;

路易斯·约翰·马克亚 .

中国专利 :CN101320221A ,2008-12-10

[3]

具有相对衬底倾斜的喷洒头的液体浸没光刻系统 [P].

亚历山德·克麦里切克 ;

亨利·西韦尔 ;

路易斯·约翰·马克雅 ;

埃里克·伦洛夫·卢布斯卓 ;

尼古拉斯·腾凯特 .

中国专利 :CN101164015B ,2008-04-16

[4]

浸没式光刻系统 [P].

杨育佳 ;

胡正明 .

中国专利 :CN2742470Y ,2005-11-23

[5]

浸没式光刻设备及其浸没罩系统 [P].

桑伟华 ;

徐骁驰 .

中国专利 :CN115407611A ,2022-11-29

[6]

浸没式光刻系统的投影系统 [P].

伍强 ;

郝静安 .

中国专利 :CN103186056B ,2013-07-03

[7]

浸没式光刻设备 [P].

C·J·G·范德敦根 ;

N·F·寇普拉斯 ;

M·H·A·里恩德尔 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

J·C·H·穆肯斯 ;

E·H·E·C·奥姆梅伦 ;

M·贝克尔斯 ;

R·莫尔曼 ;

C·D·格乌斯塔 ;

D·M·H·菲利普斯 ;

R·J·P·沃黑斯 ;

P·马尔德 ;

E·范维利特 .

中国专利 :CN102221790B ,2011-10-19

[8]

背侧浸没式光刻 [P].

乌尔里克·扬布莱德 ;

珀-埃里克·古斯塔夫森 .

中国专利 :CN101490623A ,2009-07-22

[9]

液体密封单元以及具有该液体密封单元的浸没式光刻装置 [P].

申仁燮 .

中国专利 :CN101241310A ,2008-08-13

[10]

器件制造方法和浸没式光刻设备 [P].

C·J·G·范德敦根 ;

N·F·寇普拉斯 ;

M·H·A·里恩德尔 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

J·C·H·穆肯斯 ;

E·H·E·C·奥姆梅伦 ;

M·贝克尔斯 ;

R·莫尔曼 ;

C·D·格乌斯塔 ;

D·M·H·菲利普斯 ;

R·J·P·沃黑斯 ;

P·马尔德 ;

E·范维利特 .

中国专利 :CN102226869A ,2011-10-26

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