浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110022569.4

申请日：

2008-02-14

公开(公告)号：

CN102073221B

公开(公告)日：

2011-05-25

发明(设计)人：

哈里·休厄尔路易斯·约翰·马克亚

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-25	公开	公开
2013-11-06	授权	授权
2017-03-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101710363150 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2011100225694 申请日:20080214 授权公告日:20131106 终止日期:20160214
2011-07-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101086502007 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011100225694 申请日:20080214

共 50 条

[1]

浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法 [P].

哈里·休厄尔 ;

路易斯·约翰·马克亚 .

中国专利 :CN101320221A ,2008-12-10

[2]

浸没式光刻系统 [P].

亚历山德·克麦里切克 ;

亨利·西韦尔 ;

路易斯·约翰·马克雅 ;

埃里克·伦洛夫·卢布斯卓 ;

尼古拉斯·腾凯特 .

中国专利 :CN101776848A ,2010-07-14

[3]

浸没式光刻系统 [P].

杨育佳 ;

胡正明 .

中国专利 :CN2742470Y ,2005-11-23

[4]

浸没式光刻设备 [P].

C·J·G·范德敦根 ;

N·F·寇普拉斯 ;

M·H·A·里恩德尔 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

J·C·H·穆肯斯 ;

E·H·E·C·奥姆梅伦 ;

M·贝克尔斯 ;

R·莫尔曼 ;

C·D·格乌斯塔 ;

D·M·H·菲利普斯 ;

R·J·P·沃黑斯 ;

P·马尔德 ;

E·范维利特 .

中国专利 :CN102221790B ,2011-10-19

[5]

浸没式光刻机 [P].

骆建钢 ;

黄志凯 ;

叶日铨 .

中国专利 :CN208444132U ,2019-01-29

[6]

浸没式光刻设备及其浸没罩系统 [P].

桑伟华 ;

徐骁驰 .

中国专利 :CN115407611A ,2022-11-29

[7]

浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机 [P].

魏龙飞 ;

丛国栋 ;

方洁 .

中国专利 :CN207051662U ,2018-02-27

[8]

浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机 [P].

魏龙飞 ;

丛国栋 ;

方洁 .

中国专利 :CN108663906A ,2018-10-16

[9]

浸没式光刻系统的投影系统 [P].

伍强 ;

郝静安 .

中国专利 :CN103186056B ,2013-07-03

[10]

清洁设备和浸没式光刻设备 [P].

A·M·C·P·德仲 ;

H·詹森 ;

M·H·A·里德尔斯 ;

P·布洛姆 ;

R·H·G·克莱默 ;

M·范普特恩 ;

A·德格拉夫 .

中国专利 :CN101458459A ,2009-06-17

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