半色调掩模、半色调掩模坯料及半色调掩模的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180062123.2

申请日：

2011-12-21

公开(公告)号：

CN103299241A

公开(公告)日：

2013-09-11

发明(设计)人：

中村大介影山景弘

申请人：

申请人地址：

日本埼玉县

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

代理机构：

北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270

代理人：

徐川;张颖玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-10-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101529131723 IPC(主分类):G03F 1/32 专利申请号:2011800621232 申请日:20111221
2016-03-30	授权	授权
2013-09-11	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模坯、半色调掩模、掩模坯的制造方法及半色调掩模的制造方法 [P].

诸沢成浩 .

中国专利 :CN111025840A ,2020-04-17

[2]

形成反色调图像的硬掩模方法 [P].

D·J·阿卜杜拉 ;

R·R·达莫尔 ;

M·尼瑟 .

中国专利 :CN102124413A ,2011-07-13

[3]

掩模坯料及其制造方法、相移掩模及其制造方法 [P].

余晴 ;

刘树围 ;

潘刘洋 ;

马浩 .

中国专利 :CN119805847A ,2025-04-11

[4]

光掩模坯料、光掩模及其制造方法 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 .

中国专利 :CN1763632B ,2006-04-26

[5]

光掩模坯料和制造光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

日本专利 :CN111308851B ,2025-02-11

[6]

光掩模坯料和制造光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

中国专利 :CN111308851A ,2020-06-19

[7]

掩模坯料及其制造方法、二元掩模及其制造方法 [P].

余晴 ;

刘树围 ;

潘刘洋 ;

马浩 .

中国专利 :CN119717386A ,2025-03-28

[8]

光掩模坯料和制备光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

日本专利 :CN109782527B ,2024-06-25

[9]

光掩模坯料和制备光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

中国专利 :CN109782527A ,2019-05-21

[10]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 ;

浅川敬司 ;

中村真实 ;

阿山兼士 ;

安森顺一 .

中国专利 :CN107861333A ,2018-03-30

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