化学气相沉积的晶片及薄膜温度的控制系统及其方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510666396.8

申请日：

2015-10-15

公开(公告)号：

CN105624638B

公开(公告)日：

2016-06-01

发明(设计)人：

吴中远钟步青

申请人：

申请人地址：

中国台湾台北巿大安区敦化南路二段38号14楼

IPC主分类号：

C23C1618

IPC分类号：

C23C1652

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁;张华辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-18	授权	授权
2016-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101667889624 IPC(主分类):C23C 16/18 专利申请号:2015106663968 申请日:20151015
2016-06-01	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备的控制系统 [P].

张义明 ;

陈力兵 ;

祝龙飞 ;

房伟 .

中国专利 :CN103911602A ,2014-07-09

[2]

化学气相沉积设备的控制系统 [P].

张义明 ;

陈力兵 ;

祝龙飞 ;

房伟 .

中国专利 :CN203007418U ,2013-06-19

[3]

化学气相沉积设备以及化学气相沉积设备的温度控制方法 [P].

洪性在 .

中国专利 :CN102640260A ,2012-08-15

[4]

化学气相沉积装置的温度控制方法 [P].

洪性在 ;

李弘源 ;

韩锡万 ;

陈周 .

中国专利 :CN103173745A ,2013-06-26

[5]

化学气相沉积设备的温度控制方法 [P].

洪性在 .

中国专利 :CN102598216A ,2012-07-18

[6]

化学气相沉积装置的温度控制方法 [P].

洪性在 ;

李弘源 ;

韩锡万 ;

陈周 .

中国专利 :CN102102196A ,2011-06-22

[7]

化学气相沉积装置及其温度控制方法 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112746266A ,2021-05-04

[8]

化学气相沉积装置及其温度控制方法 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112680724A ,2021-04-20

[9]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[10]

用于CVD化学气相沉积设备的温度控制方法及系统 [P].

周宇 .

中国专利 :CN121087466A ,2025-12-09

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