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一种氮化硼气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202023121948.2
申请日
:
2020-12-22
公开(公告)号
:
CN213925008U
公开(公告)日
:
2021-08-10
发明(设计)人
:
胡祥龙
周岳兵
戴煜
胡高健
王艳艳
申请人
:
申请人地址
:
410118 湖南省长沙市天心区暮云工业园顶立科技研发楼
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
C23C1634
C23C16458
C23C1652
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
刘奕
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-10
授权
授权
共 50 条
[41]
氮化硼镀膜金属网气相催化或净化方法
[P].
郑鲁生
论文数:
0
引用数:
0
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郑鲁生
.
中国专利
:CN1238241A
,1999-12-15
[42]
一种氮化硼用球磨机
[P].
孙晓鹏
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孙晓鹏
;
刁玉萍
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刁玉萍
;
马振涛
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马振涛
.
中国专利
:CN212596085U
,2021-02-26
[43]
一种氮化硼绝缘件
[P].
焦玉彦
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机构:
潍坊卓宇新材料科技有限公司
潍坊卓宇新材料科技有限公司
焦玉彦
;
赵涛
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机构:
潍坊卓宇新材料科技有限公司
潍坊卓宇新材料科技有限公司
赵涛
;
于洋
论文数:
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机构:
潍坊卓宇新材料科技有限公司
潍坊卓宇新材料科技有限公司
于洋
.
中国专利
:CN221573589U
,2024-08-20
[44]
化学气相沉积法制备宏量六方氮化硼粉体的方法
[P].
姚亚刚
论文数:
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姚亚刚
;
许燕翠
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许燕翠
.
中国专利
:CN108423647B
,2018-08-21
[45]
一种气相沉积设备
[P].
刘洋
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刘洋
;
金補哲
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金補哲
;
黄中山
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黄中山
;
蔡宇航
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蔡宇航
.
中国专利
:CN115558908A
,2023-01-03
[46]
一种气相沉积设备
[P].
徐亚伟
论文数:
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徐亚伟
.
中国专利
:CN202347096U
,2012-07-25
[47]
一种气相沉积设备
[P].
储培鸣
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0
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储培鸣
.
中国专利
:CN204918751U
,2015-12-30
[48]
一种气相沉积设备
[P].
叶侃
论文数:
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0
叶侃
.
中国专利
:CN208545494U
,2019-02-26
[49]
一种气相沉积设备
[P].
丁伟
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
丁伟
;
郑振宇
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
郑振宇
.
中国专利
:CN220579386U
,2024-03-12
[50]
一种气相沉积设备
[P].
崔日
论文数:
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崔日
.
中国专利
:CN207845775U
,2018-09-11
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