精确结构POSS杂化低介电材料的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200810041996.5
申请日
2008-08-22
公开(公告)号
CN101348568B
公开(公告)日
2009-01-21
发明(设计)人
徐洪耀 张超 光善仪 林乃波
申请人
申请人地址
201620 上海市松江区松江新城区人民北路2999号
IPC主分类号
C08G7738
IPC分类号
H01B346
代理机构
上海泰能知识产权代理事务所 31233
代理人
黄志达;谢文凯
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
低介电POSS改性氰酸酯树脂杂化材料的制备方法 [P]. 
陈明 ;
詹浩 ;
王林祥 ;
李联伟 ;
姜孝武 ;
倪伶俐 .
中国专利 :CN115028780A ,2022-09-09
[2]
低介电POSS改性氰酸酯树脂杂化材料的制备方法 [P]. 
陈明 ;
詹浩 ;
王林祥 ;
李联伟 ;
姜孝武 ;
倪伶俐 .
中国专利 :CN115028780B ,2024-06-07
[3]
低介电材料与多孔隙低介电层的回复方法 [P]. 
陈美玲 ;
陈哲明 ;
赖国智 ;
苏文杰 .
中国专利 :CN1953143A ,2007-04-25
[4]
低介电材料 [P]. 
鄞盟松 ;
陈礼君 .
中国专利 :CN109971154A ,2019-07-05
[5]
低介电材料 [P]. 
鄞盟松 ;
陈礼君 .
中国专利 :CN107227015B ,2017-10-03
[6]
一种硅烷化聚苯醚树脂及其制备方法、耐高温低介电材料及其制备方法 [P]. 
赵富贵 ;
张军营 ;
程珏 ;
魏小林 ;
邓兆敬 ;
马嘉浩 .
中国专利 :CN119463159A ,2025-02-18
[7]
一种硅烷化聚苯醚树脂及其制备方法、耐高温低介电材料及其制备方法 [P]. 
赵富贵 ;
张军营 ;
程珏 ;
魏小林 ;
邓兆敬 ;
马嘉浩 .
中国专利 :CN119463159B ,2025-07-22
[8]
用于形成低Κ介电材料的方法 [P]. 
M·卡利亚潘 ;
谢波 ;
S·姚 ;
夏立群 ;
M·哈弗特 ;
陆瑞 ;
栗潇博 ;
C-I·郎 ;
S·文卡特拉曼 .
美国专利 :CN121013916A ,2025-11-25
[9]
用于制备含溶剂的低介电材料的组合物 [P]. 
S·J·维格 ;
S·N·克霍特 ;
J·E·马道加尔 ;
T·A·布拉梅 ;
J·F·基尔纳 ;
B·K·彼得森 .
中国专利 :CN101252030A ,2008-08-27
[10]
用于制备含溶剂的低介电材料的组合物 [P]. 
S·J·维格 ;
S·N·克霍特 ;
J·E·马道加尔 ;
T·A·布拉梅 ;
J·F·基尔纳 ;
B·K·彼得森 .
中国专利 :CN1757445A ,2006-04-12