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衰减装置及光刻机
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201721440266.3
申请日
:
2017-10-31
公开(公告)号
:
CN207408740U
公开(公告)日
:
2018-05-25
发明(设计)人
:
陈梦来
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张东路1525号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
屈蘅;李时云
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-05-25
授权
授权
共 50 条
[1]
光源衰减装置及光刻机
[P].
王彦飞
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王彦飞
;
周伟
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周伟
;
章富平
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章富平
.
中国专利
:CN110967930B
,2020-04-07
[2]
光刻机及光刻机的压板装置
[P].
胡刚
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胡刚
;
陈东
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陈东
;
项宗齐
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项宗齐
.
中国专利
:CN214375824U
,2021-10-08
[3]
光刻机及光刻机用上版夹具
[P].
杜武兵
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杜武兵
;
林伟
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林伟
;
孙多卫
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孙多卫
.
中国专利
:CN204215146U
,2015-03-18
[4]
曝光装置及光刻机
[P].
周朦
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机构:
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
周朦
;
李鑫
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机构:
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
李鑫
;
王永锋
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机构:
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
王永锋
;
李新章
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机构:
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
苏州中芯启恒科学仪器有限公司
李新章
.
中国专利
:CN223065644U
,2025-07-04
[5]
光刻机对准方法、装置及光刻机
[P].
罗先刚
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机构:
天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
罗先刚
;
李成建
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天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
李成建
;
刘明刚
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机构:
天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
刘明刚
.
中国专利
:CN119356050A
,2025-01-24
[6]
一种光刻机框架及光刻机
[P].
张瑞平
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张瑞平
;
杨玉杰
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杨玉杰
.
中国专利
:CN209149068U
,2019-07-23
[7]
一种光刻机吸盘及光刻机
[P].
陈鹏
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陈鹏
;
余洋
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
余洋
;
周伟
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
周伟
;
施超
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
施超
;
董佳
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
董佳
.
中国专利
:CN223637883U
,2025-12-05
[8]
光刻机
[P].
林生财
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林生财
;
刘振辉
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刘振辉
;
王胜利
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王胜利
.
中国专利
:CN211123620U
,2020-07-28
[9]
光刻机
[P].
安德烈·伊万金
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安德烈·伊万金
;
贾里德·A·玛格林
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贾里德·A·玛格林
.
中国专利
:CN213240799U
,2021-05-18
[10]
光刻机
[P].
曲鲁杰
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曲鲁杰
;
关远远
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关远远
.
中国专利
:CN215219413U
,2021-12-17
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