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光源衰减装置及光刻机
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811161692.2
申请日
:
2018-09-30
公开(公告)号
:
CN110967930B
公开(公告)日
:
2020-04-07
发明(设计)人
:
王彦飞
周伟
章富平
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张东路1525号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
:
王宏婧
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180930
2020-04-07
公开
公开
2021-06-11
授权
授权
共 50 条
[1]
衰减装置及光刻机
[P].
陈梦来
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈梦来
.
中国专利
:CN207408740U
,2018-05-25
[2]
光刻机光源装置
[P].
敬立成
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0
敬立成
;
戴滔
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戴滔
;
张斌
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0
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0
张斌
.
中国专利
:CN208399889U
,2019-01-18
[3]
光刻机及光刻机的压板装置
[P].
胡刚
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0
胡刚
;
陈东
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0
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陈东
;
项宗齐
论文数:
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0
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0
项宗齐
.
中国专利
:CN214375824U
,2021-10-08
[4]
光刻机对准方法、装置及光刻机
[P].
罗先刚
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0
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机构:
天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
罗先刚
;
李成建
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机构:
天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
李成建
;
刘明刚
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0
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机构:
天府兴隆湖实验室
天府兴隆湖实验室
刘明刚
.
中国专利
:CN119356050A
,2025-01-24
[5]
防止光刻机光源的窗片变形的方法、结构、光源及光刻机
[P].
张琪
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
张琪
;
符友银
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
符友银
.
中国专利
:CN120010199A
,2025-05-16
[6]
LED光源和光刻机
[P].
钱俊
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钱俊
.
中国专利
:CN207096678U
,2018-03-13
[7]
光刻机照明系统及光刻机
[P].
金成昱
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金成昱
;
金帅炯
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金帅炯
;
梁贤石
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梁贤石
;
丁明正
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0
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0
丁明正
;
贺晓彬
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贺晓彬
;
刘强
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刘强
;
刘金彪
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刘金彪
;
白国斌
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0
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0
白国斌
.
中国专利
:CN114675494A
,2022-06-28
[8]
一种光刻机光源装置
[P].
唐阳明
论文数:
0
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0
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0
唐阳明
.
中国专利
:CN210954608U
,2020-07-07
[9]
光刻方法及光刻机
[P].
李海峰
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0
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0
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李海峰
;
赵志豪
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
赵志豪
;
沈俊明
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
沈俊明
;
古哲安
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
古哲安
;
吴建宏
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
吴建宏
.
中国专利
:CN120949523B
,2025-12-16
[10]
光刻机及光刻机污染控制方法
[P].
论文数:
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机构:
王魁波
;
论文数:
引用数:
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机构:
吴晓斌
;
论文数:
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机构:
罗艳
;
论文数:
引用数:
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机构:
谢婉露
.
中国专利
:CN119781255A
,2025-04-08
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