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用于MOCVD设备反应腔的测量装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110889862.4
申请日：
2021-08-04
公开(公告)号：
CN113340180B
公开(公告)日：
2021-09-03
发明(设计)人：
尧舜 刘晨晖 董国亮
申请人：
申请人地址：
100020 北京市朝阳区佳汇国际中心B座1107
IPC主分类号：
G01B518
IPC分类号：
G01B5252
代理机构：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201
代理人：
赵丽婷
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-09-03 公开 公开
2021-11-09 授权 授权
2021-09-21 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 5/18 申请日:20210804
共 50 条
[1]
MOCVD反应腔及MOCVD设备 [P]. 
徐亚伟 .
中国专利 :CN103628039A ,2014-03-12
[2]
用于卧式MOCVD设备的反应腔壳 [P]. 
徐国强 ;
张丽娜 ;
闻洁 .
中国专利 :CN118086863B ,2025-10-31
[3]
用于卧式MOCVD设备的反应腔壳 [P]. 
徐国强 ;
张丽娜 ;
闻洁 .
中国专利 :CN118086863A ,2024-05-28
[4]
托盘、MOCVD反应腔和MOCVD设备 [P]. 
李红 .
中国专利 :CN103938186A ,2014-07-23
[5]
反应腔和MOCVD设备 [P]. 
涂冶 .
中国专利 :CN104342751A ,2015-02-11
[6]
反应腔和MOCVD设备 [P]. 
袁福顺 .
中国专利 :CN104746037B ,2015-07-01
[7]
MOCVD设备的反应装置及MOCVD设备 [P]. 
王志升 .
中国专利 :CN209081979U ,2019-07-09
[8]
反应腔室及设置有该反应腔室的MOCVD设备 [P]. 
袁福顺 .
中国专利 :CN104233460B ,2014-12-24
[9]
一种反应腔室和MOCVD设备 [P]. 
涂冶 .
中国专利 :CN103820769B ,2014-05-28
[10]
一种垂直反应腔MOCVD设备喷淋头装置 [P]. 
贲建伟 ;
孙晓娟 ;
黎大兵 ;
蒋科 ;
张山丽 ;
吕顺鹏 .
中国专利 :CN117822104A ,2024-04-05
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